Лаборатория газофазного осаждения алмаза

Заведующий лабораторией - к.ф.-м.н. Корнилов Николай Владимирович

Одним из перспективных направлений деятельности является совершенствование метода получения поли- и монокристаллических алмазных пленок синтезом из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition, CVD).

Направления работ

  • Совершенствование технологий допирования (азотом, бором, фосфором) гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных CVD слоев в целях развития основ применения алмаза в качестве материала для электроники.
  • Получение бездефектных гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных CVD слоев.
  • Совершенствование технологии быстрого роста монокристаллических и поликристаллических алмазных CVD пластин.
  • Разработка технологий получения CVD алмаза для использования в качестве конструкционного материала, в частности для устройств рентгеновской оптики.
  • Совершенствование технологий газофазного осаждения как поликристаллических, так и гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных пленок на подложках из легированного бором алмаза.

Свойства CVD алмазных пластин и пленок:

  • Толщина может варьироваться от едениц до сотен микрон.
  • Размер поликристаллических CVD алмазных пластин до 50 мм (диаметр).
  • Размер монокристаллических CVD алмазных пластин определяется размером подложки (в нашем случае до 8 мм).
  • Содержание азота менее 1 ppb.



Установка синтеза алмаза из газовой фазы



Чувствительные элементы датчиков ионизирующего излучения из монокристаллов CVD
на легированных алмазных подложках