Лаборатория микроволновой плазмы

Одним из перспективных направлений деятельности является совершенствование метода получения поли- и монокристаллических алмазных пленок синтезом из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition, CVD).

• Совершенствование технологий допирования (азотом, бором, фосфором) гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных CVD слоев в целях развития основ применения алмаза в качестве материала для электроники.
• Получение бездефектных гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных CVD слоев.
• Совершенствование технологии быстрого роста монокристаллических и поликристаллических алмазных CVD пластин.
• Разработка технологий получения CVD алмаза для использования в качестве конструкционного материала, в частности для устройств рентгеновской оптики.
• Совершенствование технологий газофазного осаждения как поликристаллических, так и гомоэпитаксиальных монокристаллических алмазных пленок на подложках из легированного бором алмаза.

• Толщина может варьироваться от единиц до сотен микрон.
• Размер поликристаллических CVD алмазных пластин до 50 мм (диаметр).
• Размер монокристаллических CVD алмазных пластин определяется размером подложки (в нашем случае до 8 мм).
• Содержание азота менее 1 ppb.

Установка синтеза алмаза из газовой фазы

Чувствительные элементы датчиков ионизирующего излучения из монокристаллов CVD на легированных алмазных подложках